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研磨分散机
分散机CM2000
CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
研磨分散机
分散机CMO2000
CMO2000实在CM2000基础上的进一步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至最小，来减小颗粒粒径，从而可获更细的悬浮液。由于这项创新，CMO2000系列锥体磨（胶体磨）能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小。 锥体磨（胶体磨）的研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。
研磨分散机
分散机CMD2000
研磨分散机是由胶体磨，分散机组合而成的高科技产品，第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
研磨分散机
分散机CMSD2000
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品，CMSD系列的线速度很高，剪切间隙非常小，凹槽在每级都可以改变方向；同时，高质量的表面抛光和结构材料可满足不同行业的多种要求。
研磨分散机
分散机CMXD2000
CMXD2000系列定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽，同时，每级凹槽都可以改变方向。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。